在現代科學和工業領域，掃描電鏡(Scanning Electron Microscope,SEM)是一種重要的分析工具。它以其空間分辨率、豐富的表面信息和多樣的樣品適用性，成為材料科學、生命科學、半導體工業等領域不可少的關鍵技術之一。掃描電鏡的核心工作原理基于電子與物質相互作用的理論。當一束細聚焦的高能電子束照射到樣品表面時，會在樣品中激發出各種信號，如二次電子、背散射電子、特征X射線等。這些信號被相應的探測器捕獲并轉換為圖像，從而提供關于樣品表面形貌和組成的信息。
 

　　1.電子槍與電子束的形成：電子通過電磁透鏡系統聚焦成極細的束流，然后以光柵掃描的方式照射到樣品表面上。
 

　　2.信號的產生與收集：當電子束與樣品相互作用時，會產生多種類型的信號。其中，二次電子因其對樣品表面形貌非常敏感，常用于生成高分辨率的表面形貌圖像。背散射電子則提供了有關樣品組成和拓撲結構的信息。
 

　　3.信號的處理與成像：收集到的信號經過放大處理后，用于調制顯示器上的亮點強度，最終形成一幅反映樣品表面特性的圖像。
 

　　掃描電鏡的主要特點：
 

　　1.高分辨率：能夠提供納米級別的高分辨率圖像，使得科學家能夠觀察到微觀世界中的細節。
 

　　2.三維形態觀察能力：由于二次電子主要來自樣品表層幾納米的深度，因此SEM圖像具有很好的三維形態感，適用于復雜表面結構的觀察。
 

　　3.樣品適應性強：無論是導體還是非導體，只要適當處理，幾乎所有類型的樣品都可以通過SEM進行觀察。
 

　　4.成分分析功能：配合能量色散X射線光譜儀(EDS)，SEM還可以進行元素的定性和定量分析。